半自動顯影清洗機(jī)
施密科是集研發(fā),生產(chǎn),銷售為一體的濕法制程設(shè)備制造商
| 項目 | 數(shù)據(jù) |
| 適應(yīng)工件 | 4~8寸晶圓片清洗 |
| 批量產(chǎn)能 | 8寸25PCS/批 |
| 工藝流程 | QDR←顯影→QDR←顯影→QDR |
| 工藝槽功能 | 循環(huán)過濾+加熱冷卻+上下抖動+硅片滾動 |
| 主要材料 | 金屬骨架+PVC/PPW殼板,槽體采用PPN/PVDF材質(zhì) |
| 運(yùn)送方式 | 手動傳送 |
| 節(jié)拍時間 | 依工藝5~15min可調(diào) |
應(yīng)用 : 集成電路
類別 : 其他產(chǎn)品
應(yīng)用 : 集成電路
類別 : 其他產(chǎn)品
應(yīng)用 : 化合物半導(dǎo)體
類別 : 其他產(chǎn)品
應(yīng)用 : 集成電路
類別 : 其他產(chǎn)品